After NABイベントを下記スケジュールにて開催します。
開 催 日： 平成23年6月 3日 13:00～17:00
場 所： 西華産業（株） 3F
http://www.seika.com/network/map/map_tokyo.pdf
内 容：
１) RED Digital Cinema社関連
EPIC-Mシステムデモンストレーション
EPICワークフローデモンストレーション
（EPIC対応バージョン：DaVinci、Storm、Scartchを予定）
２）Leica社関連
Leica社 Summilux-C プライムレンズデモンストレーション
（今回、4種類のレンズにて対応します）
３）Blackmagicdesign社関連
各商品御案内（新製品のオーダーを開始します）
参加費用： 無料
申込方法： URL：http://seikared.com/afterNAB_seikadi/
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After NAB event in Japan
Date : June 3rd (13:00 to 17:00)
Place : Seika Co
http://www.seika.com/network/map/map_tokyo.pdf
Main event : EPIC-M demonstration
EPIC workflow for new DaVinci Resolve (V8.0) , Storm, New Scratch (for Mac)
Leica Summilux-C prime lens demonstration
New Blackmagic Design products
Entry : URL：http://seikared.com/afterNAB_seikadi/
